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如何實時監測半導體工藝中的安瓿是否耗盡與泄漏？

　　在半導體制造中，工藝的精確性與一致性至關重要。化學氣相沉積（CVD）和原子層沉積（ALD）等先進的沉積技術依賴安瓿來儲存和輸送前驅體，以形成厚度精確、性能一致的薄膜。若安瓿在工藝過程中耗盡而未及時被發現，將導致薄膜不均勻、缺陷增多甚至器件失效，嚴重影響整批晶圓的質量。此類故障不僅會降低良率，還會…
選對晶體，事半功倍！下載INFICON指南，掌握石英監測晶體的選型秘訣

　　在基于石英晶體的測量系統中，監測晶體的選擇直接決定了測量結果的準確性與穩定性。尤其在嚴苛的工藝環境下，為您的應用選擇適合的 INFICON 晶體至關重要�！　∫蕴柲茈姵刂圃鞛槔�，大面積鍍膜常采用濺射工藝，并通過 QCM （石英晶體微量天平）實時監測膜厚以確保均勻性。但挑戰在于：濺射過程產生的大…
【聚焦光伏行業應用系列四】RGA：太陽能制造的隱形質控守護者

　　在光伏產業向高效化、智能化轉型的關鍵期，INFICON 作為全球真空測量與薄膜控制領域的技術領先者，正以多元化產品矩陣重塑太陽能制造的底層邏輯。從鈣鈦礦電池量產突破到真空環境精密控制，從薄膜沉積技術到全流程協同優化，我們將通過系列文章，逐層拆解 INFICON 不同產品與技術在太陽能制造中的深度…